| Art |
KD_8_2_Z1 Kerndaten für die Bekanntgabe von vergebenen Aufträgen und abgeschlossenen Rahmenvereinbarungen |
| Bezeichnung |
Elektronenstrahl-Lithographisystem |
| Kategorie (CPV Hauptteil) |
38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) |
| Auftraggeber |
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| Lieferant |
FormFactor Inc. |
| Verfahrensart |
Verhandlungsverfahren ohne vorherige Bekanntmachung
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| Art des Auftrags |
Lieferauftrag |
| Beschreibung |
Die Elektronenstrahllithografie (EBL) ist eine Fertigungstechnik, bei der mittels fokussiertem Elektronenstrahl individuelle Muster bis in den Nanometerbereich auf Oberflächen gezeichnet werden, die mit einem elektronenempfindlichen Resist beschichtet sind. Ziel der Beschaffung ist, die derzeit vorhandenen Photolithographie-Werkzeuge, um ein hochspezialisiertes EBL-Instrument zu erweitern, um die Auflösung um zwei Größenordnungen zu verbessern. |
| Tag Vertragsabschluss |
20.04.2022 |
| Anzahl eingegangener Angebote |
1 |
| Auftragswert |
2.000.000,00 |
| Angabe ob Auftragswert OSB oder USB |
Oberschwellenbereich (OSB) |