Die Elektronenstrahllithografie (EBL) ist eine Fertigungstechnik, bei der mittels fokussiertem Elektronenstrahl individuelle Muster bis in den Nanometerbereich auf Oberflächen gezeichnet werden, die mit einem elektronenempfindlichen Resist beschichtet sind. Ziel der Beschaffung ist, die derzeit vorhandenen Photolithographie-Werkzeuge, um ein hochspezialisiertes EBL-Instrument zu erweitern, um die Auflösung um zwei Größenordnungen zu verbessern.